Der Nanoskalige Linienbreiten / Gitterperioden-Standard besteht aus verschiedenen Gitterstrukturen, die eine Kalibrierung der Linienbreiten sowie eine Auflösungsprüfung gestatten. Möglich ist dies beispielsweise für Verfahren der optischen Mikroskopie, wie UVM (deep ultraviolet microscopy) and CLSM (confocal laser scanning microscopy), aber auch für AFM (atomic force microscopy). Die in nanokristallines Silizium geätzten Strukturen gestatten weiterhin einen Astigmatismustest dieser Instrumente.

Ein hoher optischer Kontrast der Strukturen bis in den UV-Wellenlängenbereich ermöglicht den Einsatz in der UV-Transmissions- und UV–Reflexionsmikroskopie sowie der Laser Scanning Mikroskopie. Als Gittertypen sind 1-dimensionale Liniengitter (für x und y), 2-dimensionale Kreuzgitter und Kreisgitter vorhanden. Eine gesonderte Einzelstruktur zur CD-Bestimmung ist auf einer Seite des 1-dimensionalen Gitters angefügt.

Die Periodenwerte betragen 160, 200, 230, 260, 300, 400, 500, 700 nm, 1 µm und 4 µm, d.h. die Strukturbreiten liegen zwischen 80 nm und 2 µm.

Mit Ausnahme der größeren 4 µm Strukturen hat jedes Gitter eine Fläche von 10×10 µm².
 

Spezifikationen
Substrat	Material: Quarz Chipgröße: 8×8 mm²
Schicht	nanokristallines Silizium Dicke: 25 nm
Chiphalter	Abmessungen: 76×26×2 mm Material: Aluminiumlegierung, eloxiert
Findestrukturen	Au Dicke: 100 nm
Gittertypen	1-dimensional (Liniengitter für x+y) 2-dimensional (Kreuzgitter) zirkular (Kreisgitter) eine gesonderte Einzelstruktur zur CD-Bestimmung auf einer Seite des 1-dimensionalen Gitters
Gittergröße	normalerweise 10×10 μm²
Linienbreiten (CD)	nominell: 80 nm, 100 nm, 115 nm, 130 nm, 200 nm, 250 nm, 350 nm, 500 nm, 2 μm Linienbreitenabweichung längs der Linie (innerhalb eines 6 μm langen Bereichs): 8 nm 1σ
Perioden	160 nm, 200 nm, 230 nm, 260 nm, 300 nm, 400 nm, 500 nm, 700 nm, 1000 nm, 4 μm Unsicherheit der Hauptperiode: 3 nm 1σ
Rundheit der Kreisgitter	± 0.6 % Abweichung von der Hauptperiode in x- und y-Richtung (± 1 nm for 160 nm Gitter)
Zertifizierung	Linienbreiten (CD)- und Periodenkalibrierung durch die PTB Braunschweig auf Anfrage

Chip- und Strukturbeschreibung

DUV-Mikroskop Bilder

Die Bilder zeigen DUV-Aufnahmen von Strukturen des Nanoskaligen Linienbreiten / Gitterperioden-Standards unter Verwendung verschiedener Arten von Objektiven. Die Zahlen über den Spalten geben die Periode in nm an. Nur hochauflösende DUV-Mikroskope (λ = 248 nm) mit Immersionsobjektiv (NA = 1,2) sind in der Lage, gut aufgelöste Bilder des 160 nm Gitters zu liefern.