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Substratreinigung

Substratreinigung

 
mittels nasschemischer Prozesse
(sauer, alkalisch) oder Plasmacleaning

Materialien: Wafer, Masken, optische Substrate, Sonderformen  
 








 
 
Beispiel
 
mikro_substrat.gif Optische Gitterstrukturen

Die Reinheit von Substraten nach der mechanischen Bearbeitung ist häufig nicht ausreichend für eine sachgerechte Weiterverarbeitung im Bereich der optischen Beschichtung und Mikrostrukturierung. Hierfür wurden im Unternehmen spezielle Reinigungsverfahren entwickelt.
 


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